高品质磷化铟单晶片建设项目-4英寸高品质磷化铟改扩建首次环境影响评价信息公示
发布日期:2026-04-14浏览人次:285

按照《中华人民共和国环境影响评价法》《环境影响评价公众参与办法》等法律、法规有关公开环境信息和强化社会监督的规定,我公司现已委托云南国琨环保科技有限公司编制《高品质磷化铟单晶片建设项目-4英寸高品质磷化铟改扩建环境影响报告书》,现首次公开下列信息:

一、建设项目概况

1、项目名称:高品质磷化铟单晶片建设设项目-4英寸高品质磷化铟改扩建

2、项目选址:云南省昆明市高新区马金铺魁星街666

3、建设内容:项目在现有4英寸磷化铟晶片产能基础上实施改扩建工程,新增智能化核心工艺设备,配套升级水电气等公辅设施,新增年产20万片(折4英寸)磷化铟晶片产能

4、建设性质:扩建

二、建设单位名称和联系方式

建设单位:云南鑫耀半导体材料有限公司

联系人:穆云伟               

联系电话:15808763096

三、环境影响报告书编制单位名称

编制单位:云南国琨环保科技有限公司

联系人:林钰杰                  

联系电话:13095323169

四、公众意见表的网络连接

http://www.mee.gov.cn/xxgk2018/xxgk/xxgk01/201810/t20181024_665329.html

五、提交公众意见表的方式和途径

联系人:穆云伟                   

联系电话:15808763096

邮箱:muyunwei@sino-ge.com

六、公示时间

从具体公示之日起至环境影响报告书征求意见稿编制完成。

注:在环境影响报告书征求意见稿编制过程中,公众均可向建设单位提出与环境影响评价相关的意见。


附件:公众参与意见表.docx

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